زموږ ویب پاڼو ته ښه راغلاست!

د FeNi سپټرینګ هدف د لوړ پاکوالي پتلی فلم Pvd کوټینګ دودیز جوړ شوی

د اوسپنې نکل

لنډ معلومات:

کټګوري

د الیاژ سپوټرینګ هدف

کیمیاوي فورمول

NiFe

ترکیب

د اوسپنې نکل

پاکوالی

99.9٪، 99.95٪، 99.99٪

شکل

پلیټونه، د کالم هدفونه، آرک کیتوډونه، په خپله خوښه جوړ شوي

د تولید بهیر

د ویکیوم خټکی، PM

شته اندازه

L≤2000mm، W≤300mm


د محصول تفصیل

د محصول ټګ

د اوسپنې نکل سپټرینګ هدف د ویکیوم میلټینګ ، کاسټینګ او PM په واسطه تولید شوی.دا د ټیټ ساحې ځواک کې خورا لوړ مقناطیسي پارومیت لري.

د اوسپنې نکل هدف (Nickel>30 wt%) د خونې په تودوخې کې د مخ متمرکز کیوبیک جوړښت ښیي.په دودیز ډول د نکل اوسپنې هدفونه د نکل له 36٪ څخه ډیر ترکیب لري، او په څلورو کټګوریو ویشل کیدی شي: 35٪~40% Ni-Fe، 45%~50% Ni-Fe، 50%~65% Ni-Fe او 70% ~81% Ni-Fe.هر یو د سرکلر، مستطیل یا الوتکې مقناطیسي هیسټریسیس لوپونو سره په موادو کې جوړ کیدی شي.

د نکل اوسپنې (Ni-Fe) سپټرینګ هدفونه د غوښتنلیکونو په پراخه لړۍ کې کارول کیږي، د بیلګې په توګه د مقناطیسي ذخیره کولو میډیا او د EMI محافظت وسایل.

بډایه ځانګړي توکي د سپټرینګ هدف په جوړولو کې تخصص لري او کولی شي د پیرودونکو ځانګړتیاو سره سم د اوسپنې نکل سپټرینګ توکي تولید کړي.موږ کولی شو پاکوالی 99.99٪ او زموږ ځانګړي ترکیبونه وړاندې کړو: Ni-Fe10at٪، N-iFe16at٪، Ni-Fe19at٪، Ni-Fe20at٪، Ni-Fe36at٪، Ni-Fe50at٪، Ni-Fe70at٪.د لا زیاتو معلوماتو لپاره، مهرباني وکړئ موږ سره اړیکه ونیسئ.


  • مخکینی:
  • بل: