Rich Special Material Co., Ltd. کولی شي د سیمیکمډکټر صنعت لپاره د لوړ پاکوالي المونیم سپټرینګ هدفونه ، د مسو سپټرینګ هدفونه ، د ټنټلم سپټرینګ هدفونه ، ټایټانیوم سپټرینګ هدفونه او نور تولید کړي.
د سیمی کنډکټر چپس لوړ تخنیکي اړتیاوې او د سپټټر کولو هدفونو لپاره لوړ نرخونه لري.د سپټرینګ اهدافو د پاکوالي او ټیکنالوژۍ لپاره د دوی اړتیاوې د فلیټ پینل ډیزاینونو ، سولر حجرو او نورو غوښتنلیکونو څخه لوړې دي.د سیمی کنډکټر چپس د سپټرینګ اهدافو پاکوالي او داخلي مایکرو جوړښت باندې خورا سخت معیارونه ټاکي.که چیرې د تودوخې هدف د ناپاکۍ مینځپانګه ډیره وي، جوړ شوی فلم نشي کولی اړین بریښنایی ځانګړتیاوې پوره کړي.د تودوخې په پروسه کې، په ویفر کې د ذراتو جوړول اسانه دي، په پایله کې د شارټ سرکټ یا سرکټ زیان، چې د فلم فعالیت په جدي توګه اغیزه کوي.په عموم کې ، د چپ تولید لپاره ترټولو لوړ پاکتیا سپټرینګ هدف ته اړتیا ده ، کوم چې معمولا 99.9995٪ (5N5) یا لوړ وي.
د سپټرینګ هدفونه د خنډ پرتونو جوړولو او د فلزي تارونو پرتونو بسته کولو لپاره کارول کیږي.د ویفر جوړولو په پروسه کې، هدف په عمده توګه د ویفر د کنډکټیو پرت، خنډ پرت او فلزي گرډ جوړولو لپاره کارول کیږي.د چپ بسته کولو په پروسه کې، د سپټرینګ هدف د فلزي پرتونو، د تارونو پرتونو او نورو فلزي موادو د ډنډونو لاندې د تولید لپاره کارول کیږي.که څه هم د ویفر تولید او چپ بسته بندۍ کې کارول شوي هدف لرونکي موادو مقدار لږ دی ، د SEMI احصایو له مخې ، د ویفر تولید او بسته کولو پروسې کې د هدف موادو لګښت شاوخوا 3٪ حساب کوي.په هرصورت، د سپټرینګ هدف کیفیت مستقیم د کنډکټیک پرت او خنډ پرت په یووالي او فعالیت اغیزه کوي، په دې توګه د لیږد سرعت او د چپ ثبات اغیزه کوي.له همدې امله، د سپټرینګ هدف د سیمیکمډکټر تولید لپاره یو له اصلي خامو موادو څخه دی
د پوسټ وخت: نومبر-16-2022