هدف ډیری اغیزې لري، او د بازار پراختیا ځای لوی دی.دا په ډیری برخو کې خورا ګټور دی.نږدې ټول نوي سپټرینګ تجهیزات د هدف په شاوخوا کې د ارګون ایونیزیشن ګړندي کولو لپاره د سپیرل الکترونونو لپاره ځواکمن مقناطیس کاروي ، چې په پایله کې د هدف او ارګون ایونونو ترمینځ د ټکر احتمال ډیریږي.اوس راځئ چې په ویکیوم کوټینګ کې د سپټرینګ هدف رول ته یوه کتنه وکړو.
د تودوخې کچه ښه کړئ.عموما، DC سپټرینګ د فلزي کوټ کولو لپاره کارول کیږي، پداسې حال کې چې د RF AC سپټرینګ د غیر کنډک سیرامیک مقناطیسي موادو لپاره کارول کیږي.بنسټیز اصل دا دی چې په خلا کې د هدف په سطحه د ارګون (AR) آئنونو د وهلو لپاره د ګلو ډیسچارج وکاروئ، او په پلازما کې کیشنونه به ګړندي شي ترڅو منفي الیکټروډ سطح ته د ویشل شوي موادو په توګه ګړندي شي.دا اغیزه به د هدف مواد له مینځه یوسي او په سبسټریټ کې زیرمه کړي ترڅو فلم جوړ کړي.
په عموم کې، د سپټټر کولو پروسې په واسطه د فلم کوټ ډیری ځانګړتیاوې لري: (1) فلز، مصر یا انسولټر د فلم ډیټا کې جوړ کیدی شي.
(2) د مناسبو ترتیباتو شرایطو لاندې، فلم د ورته ترکیب سره د څو او ګډوډ هدفونو څخه جوړ کیدی شي.
(3) د هدف لرونکي موادو او ګازو مالیکولونو مخلوط یا مرکب د خارج کیدو په اتموسفیر کې د اکسیجن یا نورو فعال ګازونو په اضافه کولو سره تولید کیدی شي.
(4) د هدف ان پټ اوسنی او سپټټر کولو وخت کنټرول کیدی شي ، او د لوړ دقیق فلم ضخامت ترلاسه کول اسانه دي.
(5) د نورو پروسو په پرتله، دا د لوی ساحې یونیفورم فلمونو تولید لپاره مناسب دی.
(6) ټوټې ټوټې شوي ذرات تقریبا د جاذبې لخوا اغیزمن ندي، او د هدف او سبسټریټ موقعیتونه په آزاده توګه تنظیم کیدی شي.
د پوسټ وخت: می-17-2022