سپک شوي مولیبډینم هدفونه په پراخه کچه د بریښنایی صنعت ، سولر حجرو ، شیشې پوښاک او نورو برخو کې د دوی د اصلي ګټو له امله کارول شوي.د کوچني کولو ، ادغام ، ډیجیټل کولو ، او استخباراتو کې د عصري ټیکنالوژۍ ګړندۍ پرمختګ سره ، د مولیبډینم اهدافو کارول به دوام ومومي ، او د دوی لپاره د کیفیت اړتیاوې به هم په چټکۍ سره لوړې شي.نو موږ اړتیا لرو چې د مولیبډینم اهدافو کارولو کچه ښه کولو لپاره لارې چارې ولټوو.اوس، د RSM مدیر به د هرچا لپاره د سپټرینګ مولیبډینم اهدافو کارولو نرخ ته وده ورکولو لپاره ډیری میتودونه معرفي کړي.
1. برقی مقناطیسي کویل په شا لوري کې اضافه کړئ
د سپوټر شوي مولیبډینم هدف د کارولو نرخ ښه کولو لپاره ، د پلانر میګنیټرون سپټرینګ مولیبډینم هدف شاته اړخ کې یو بریښنایی مقناطیسي کویل اضافه کیدی شي ، او د مولیبډینم هدف په سطحه مقناطیسي ساحه د اوسني زیاتوالي سره وده کولی شي. د برقی مقناطیسی کویل، ترڅو د مولیبډینم هدف د کارولو کچه ښه کړي.
2. ټیوبلر څرخیدونکي هدف مواد غوره کړئ
د فلیټ اهدافو سره پرتله کول، د نلیوال څرخیدونکي هدف جوړښت غوره کول د هغې اصلي ګټې په ګوته کوي.په عموم کې، د فلیټ هدفونو د کارولو کچه یوازې 30٪ څخه تر 50٪ پورې ده، پداسې حال کې چې د ټیوبلر څرخیدونکي هدفونو څخه د استفادې کچه کیدای شي 80٪ ته ورسیږي.برسېره پردې، کله چې د څرخيدونکي خالي ټیوب Magnetron sputtering هدف څخه کار واخلئ، ځکه چې هدف هر وخت د ثابت بار مقناطیس اسمبلۍ شاوخوا ګرځي، نو د هغې په سطحه به هیڅ ډول ځای نه وي، نو د څرخيدونکي هدف ژوند عموما 5 ځله ډیر وي. د الوتکې د هدف په پرتله.
3. د نوو تودوخې تجهیزاتو سره بدل کړئ
د هدفي موادو د کارونې د کچې د ښه کولو کلیدي د سپټرینګ تجهیزاتو ځای په ځای کول بشپړول دي.د molybdenum sputtering هدف موادو د تودوخې پروسې په جریان کې، شاوخوا شپږمه برخه سپټرینګ اتومونه به د ویکیوم چیمبر په دیوال یا بریکٹ کې د هایدروجن ایونونو له مینځه وړلو وروسته جمع شي، د ویکیوم تجهیزاتو پاکولو لګښت او د ځنډ وخت زیاتوي.نو د نوو سپټرینګ تجهیزاتو ځای په ځای کول هم کولی شي د مولیبډینم هدفونو د سپکولو د کارولو کچه ښه کړي.
د پوسټ وخت: می-24-2023