ځینې پیرودونکي د سیلیکون سپټرینګ اهدافو په اړه وپوښتل.اوس، د RSM ټیکنالوژۍ څانګې همکاران به ستاسو لپاره د سیلیکون سپټرینګ هدفونه تحلیل کړي.
د سیلیکون سپټرینګ هدف د سیلیکون انګوټ څخه د فلزي سپټر کولو په واسطه رامینځته کیږي.هدف د مختلفو پروسو او میتودونو لخوا تولید کیدی شي، پشمول د الکتروپټینګ، سپټرینګ او د بخار جمع کول.غوره شوي مجسمې د مطلوب سطحي شرایطو ترلاسه کولو لپاره اضافي پاکولو او د نقاشۍ پروسې چمتو کوي.تولید شوی هدف خورا انعکاس دی، له 500 څخه کم انګسټروم او نسبتا چټک سوځیدنې سرعت سره.د سیلیکون هدف لخوا چمتو شوی فلم د ټیټ ذرو شمیر لري.
د سیلیکون سپټرینګ هدف د سیلیکون پراساس موادو باندې د پتلي فلمونو زیرمه کولو لپاره کارول کیږي.دوی عموما په ښودنه ، سیمیکمډکټر ، نظری ، نظری ارتباط او د شیشې کوټینګ غوښتنلیکونو کې کارول کیږي.دوی د لوړ تخنیکي اجزاو د ایچ کولو لپاره هم مناسب دي.د N-ډول سیلیکون سپټرینګ هدفونه د مختلف موخو لپاره کارول کیدی شي.دا په ډیری برخو کې د تطبیق وړ دی، پشمول د برقیاتو، شمسی حجرو، سیمی کنډکټرونو او نندارتونونو.
د سیلیکون سپټرینګ هدف یو سپټرینګ لوازم دی چې په سطحه د موادو زیرمه کولو لپاره کارول کیږي.معمولا، دا د سیلیکون اتومونو څخه جوړ دی.د سپټټر کولو پروسه دقیق مقدار ته اړتیا لري، کوم چې ممکن یو لوی ننګونه وي.د مثالی سپټرینګ تجهیزاتو کارول د سیلیکون پراساس اجزاو جوړولو یوازینۍ لار ده.د یادولو وړ ده چې د سلیکون سپټرینګ هدف د سپټرینګ پروسې کې نه کارول کیږي.
د پوسټ وخت: اکتوبر-24-2022