د هدف د سپکولو غوښتنلیک او اصول

د هدف ټیکنالوژۍ د سپټټر کولو کارولو او اصولو په اړه، ځینې پیرودونکي د RSM سره مشوره کړې، اوس د دې ستونزې لپاره چې ډیر اندیښمن دي، تخنیکي متخصصین ځینې ځانګړي اړونده پوهه شریکوي.

　　د سپټرینګ هدف غوښتنلیک:

د چارج کولو ذرات (لکه آرګون آئن) په جامد سطح بمباري کوي، د سطحې ذرات، لکه اتومونه، مالیکولونه یا بنډلونه د شیانو له سطحې څخه د تیښتې لامل کیږي چې د "سپټرینګ" په نوم یادیږي.د میګنیټرون سپټرینګ کوټینګ کې ، د ارګون آیونیزیشن لخوا رامینځته شوي مثبت آیونونه معمولا د جامد (هدف) د بمبارولو لپاره کارول کیږي ، او سپک شوي غیر جانبدار اتومونه په سبسټریټ (ورک پیس) کې زیرمه کیږي ترڅو د فلم پرت رامینځته کړي.د Magnetron sputtering کوټ دوه ځانګړتیاوې لري: "ټیټ حرارت" او "چټک".

　　د میګینټرون د سپکولو اصول:

د اورتوګونال مقناطیسي ساحه او بریښنایی ساحه د سپټ شوي هدف قطب (کیتوډ) او انود ترمنځ اضافه کیږي، او اړین غیر فعال ګاز (عموما ار ګاز) په لوړ خلا چیمبر کې ډک شوی.دایمي مقناطیس د هدف لرونکي موادو په سطحه د 250-350 Gauss مقناطیسي ساحه جوړوي، او د لوړ ولتاژ بریښنایی ساحې سره د اورتوګونل بریښنایی مقناطیسي ساحه جوړوي.

د بریښنایی ساحې د عمل لاندې ، آر ګاز په مثبت آیونونو او الکترونونو کې ionized کیږي ، او په هدف باندې یو مشخص منفي لوړ فشار شتون لري ، نو د هدف قطب څخه خارج شوي الیکټرانونه د مقناطیسي ساحې او د کار کولو ionization احتمال لخوا اغیزمن کیږي. ګاز زیاتیږي.د کیتوډ سره نږدې یو لوړ کثافت پلازما رامینځته کیږي ، او آر آیون د لورینټز ځواک تر عمل لاندې د هدف سطحې ته سرعت ورکوي او د هدف سطح په ډیر سرعت سره بمباروي ، ترڅو په نښه شوي اتومونه په لوړ سرعت سره د هدف له سطحې څخه وتښتي. متحرک انرژي او سبسټریټ ته الوتنه کوي ترڅو د حرکت د تبادلې اصولو سره سم فلم جوړ کړي.

Magnetron sputtering عموما په دوه ډوله ویشل کیږي: DC sputtering او RF sputtering.د DC سپټرینګ تجهیزاتو اصول ساده دي ، او نرخ ګړندی دی کله چې فلزي توییږي.د RF sputtering کارول خورا پراخه دي، د کنډکټیو موادو د سپکولو سربیره، د غیر کنډکټیو موادو سپکاوی، بلکې د اکسایدونو، نایټریډونو او کاربایډونو او نورو مرکب موادو د تعامل وړ سپټرینګ تیاری هم.که چیرې د RF فریکوینسي زیاته شي ، دا د مایکروویو پلازما سپټرینګ کیږي.اوس مهال، د الکترون سایکلوترون ریزونانس (ECR) ډوله مایکروویو پلازما سپټرینګ په عام ډول کارول کیږي.