د ویکیوم الکترودپوزیشن کې د هدفونو دندې

هدف په ډیری برخو کې ډیری دندې او پراخه غوښتنلیکونه لري.د سپټټر کولو نوي تجهیزات نږدې د هدف شاوخوا د ارګون آیونیزیشن ګړندي کولو لپاره د برقیانو سرپل لپاره ځواکمن مقناطیس کاروي ، کوم چې د هدف او ارګون ایونونو ترمینځ د ټکر احتمال زیاتوي ،

د تودوخې کچه لوړه کړئ.عموما، DC سپټرینګ د فلزي کوټینګ لپاره کارول کیږي، پداسې حال کې چې د RF مخابراتي سپټرینګ د غیر کنډکټیک سیرامیک مقناطیسي موادو لپاره کارول کیږي.اساسی اصل دا دی چې په خلا کې د هدف په سطحه د ارګون (AR) آئنونو د وهلو لپاره د ګلو ډیسچارج وکاروئ ، او په پلازما کې کیشنونه به ګړندي شي ترڅو منفي الیکټروډ سطح ته د ویشل شوي موادو په توګه ګړندي شي.دا اغیزه به د هدف مواد له مینځه یوسي او په سبسټریټ کې زیرمه کړي ترڅو فلم جوړ کړي.

په عموم کې، د سپټرینګ پروسې په کارولو سره د فلم کوټ ډیری ځانګړتیاوې شتون لري:

(1) فلزي، مصر یا انسولټر د پتلی فلم ډیټا کې جوړ کیدی شي.

(2) د مناسبو ترتیباتو شرایطو لاندې، فلم د ورته ترکیب سره د څو او ګډوډ هدفونو څخه جوړ کیدی شي.

(3) د هدف لرونکي موادو او ګازو مالیکولونو مخلوط یا مرکب د خارجیدو په اتموسفیر کې د اکسیجن یا نورو فعال ګازونو په اضافه کولو سره رامینځته کیدی شي.

(4) د هدف ان پټ اوسنی او سپټټر کولو وخت کنټرول کیدی شي ، او د لوړ دقیق فلم ضخامت ترلاسه کول اسانه دي.

(5) دا د نورو فلمونو تولید لپاره ګټور دی.

(6) ټوټې ټوټې شوي ذرات په سختۍ سره د جاذبې لخوا اغیزمن کیږي، او هدف او سبسټریټ په آزاده توګه تنظیم کیدی شي.