د سپټر هدف مواد څه شی دی

د Magnetron sputtering coating یو نوی فزیکي بخار کوټینګ طریقه ده، د پخوانۍ تبخیر کوټ کولو میتود په پرتله، په ډیری اړخونو کې د هغې ګټې خورا د پام وړ دي.د یوې بالغې ټیکنالوژۍ په توګه، د میګنټرون سپټرینګ په ډیری برخو کې پلي شوي.

　　د میګینټرون د سپکولو اصول:

د اورتوګونال مقناطیسي ساحه او بریښنایی ساحه د سپټ شوي هدف قطب (کیتوډ) او انود ترمنځ اضافه کیږي، او اړین غیر فعال ګاز (عموما ار ګاز) په لوړ خلا چیمبر کې ډک شوی.دايمي مقناطیس د هدف لرونکي موادو په سطحه د 250-350 ګاس مقناطیسي ساحه جوړوي، او د اورتوګونل الکترومقناطيسي ساحه د لوړ ولتاژ بریښنایی ساحې سره جوړه شوې ده.د بریښنایی ساحې تر اغیز لاندې ، د ار ګاز ionization په مثبت آیونونو او الکترونونو کې ، هدف او ځینې منفي فشار لري ، د قطب څخه هدف څخه د مقناطیسي ساحې اغیزې او د کاري ګاز ionization احتمال ډیریږي ، نږدې لوړ کثافت پلازما رامینځته کوي. کیتوډ، د لورینټز ځواک تر عمل لاندې آر آیون، د هدف سطحې ته د الوتلو سرعت، په لوړ سرعت د هدف سطحه بمباري کول، په نښه شوي اتومونه د حرکت د تبادلې اصول تعقیبوي او په لوړ حرکت سره د هدف له سطحې څخه الوتنه کوي. د سبسټریټ جمع کولو فلم ته انرژي.

Magnetron sputtering عموما په دوه ډوله ویشل کیږي: DC sputtering او RF sputtering.د DC سپټرینګ تجهیزاتو اصول ساده دي ، او نرخ ګړندی دی کله چې فلزي توییږي.د RF sputtering کارول خورا پراخه دي، د کنډکټیو موادو د سپکولو سربیره، د غیر کنډکټیو موادو سپکاوی، بلکې د اکسایدونو، نایټریډونو او کاربایډونو او نورو مرکب موادو د تعامل وړ سپټرینګ تیاری هم.که چیرې د RF فریکوینسي زیاته شي ، دا د مایکروویو پلازما سپټرینګ کیږي.اوس مهال، د الکترون سایکلوترون ریزونانس (ECR) ډوله مایکروویو پلازما سپټرینګ په عام ډول کارول کیږي.

　　د میګنیټرون سپټرینګ کوټینګ هدف مواد:

د فلزي سپټرینګ هدف مواد ، د کوټ کولو مصر د سپټرینګ کوټینګ مواد ، د سیرامیک سپټرینګ کوټینګ مواد ، بورایډ سیرامیک سپټرینګ هدف توکي ، کاربایډ سیرامیک سپټرینګ هدف توکي ، فلورایډ سیرامیک سپټرینګ هدف مواد ، نایټریډ سیرامیک سپټرینګ هدف توکي ، د آکسایډ سیرامیک سپټرینګ هدف توکي ، سیرامیک سپټرینګ هدف مواد د سیلیکایډ سیرامیک سپټرینګ هدف توکي ، سلفایډ سیرامیک سپټرینګ هدف توکي ، ټیلورایډ سیرامیک سپټرینګ هدف ، نور سیرامیک هدف ، کرومیم-ډوپډ سیلیکون آکسایډ سیرامیک هدف (CR-SiO) ، انډیم فاسفایډ هدف (InP) ، لیډ ارسنایډ هدف (PbAs) ، انډیم آرسینایډ هدف (InAs).