د NiFe سپټرینګ هدف د لوړ پاکوالي پتلی فلم Pvd کوټینګ دودیز جوړ شوی
نکل اوسپنه
ویډیو
د نکیل اوسپنې سپټټرینګ هدف توضیحات
د نکیل اوسپنې سپټرینګ هدف د ویکیوم میلټینګ ، کاسټینګ او PM په واسطه تولید شوی.دا د ټیټ ساحې ځواک کې خورا لوړ مقناطیسي پارومیت لري.
د نکل اوسپنې هدف (Nickel>30 wt%) د خونې په تودوخې کې د مخ متمرکز کیوبیک جوړښت ښیي.په دودیز ډول د نکل اوسپنې هدفونه د نکل له 36٪ څخه ډیر ترکیب لري، او په څلورو کټګوریو ویشل کیدی شي: 35٪～40% Ni-Fe، 45%～50% Ni-Fe، 50%～65% Ni-Fe او 70% ～81% Ni-Fe.هر یو د سرکلر، مستطیل یا الوتکې مقناطیسي هیسټریسیس لوپونو سره په موادو کې جوړ کیدی شي.
د نکل اوسپنې (Ni-Fe) سپټرینګ هدفونه د غوښتنلیکونو په پراخه لړۍ کې کارول کیږي، د بیلګې په توګه د مقناطیسي ذخیره کولو میډیا او د EMI محافظت وسایل.
د نکیل اوسپنې سپوټرینګ هدف بسته بندي
زموږ د نکل اوسپنې سپټر هدف په واضح ډول په بهر کې نښه شوی او لیبل شوی ترڅو د اغیزمن پیژندنې او کیفیت کنټرول ډاډمن کړي.د هر ډول زیان څخه مخنیوي لپاره خورا پاملرنه کیږي چې ممکن د ذخیره کولو یا ترانسپورت پرمهال رامینځته شي.
اړیکه ترلاسه کړئ
د RSM د نکل اوسپنې د سپټر کولو هدفونه د خورا لوړ پاکوالي او یونیفورم څخه دي.دوی په مختلفو بڼو، پاکوالي، اندازو او قیمتونو کې شتون لري.موږ کولی شو پاکوالی 99.99٪ او زموږ ځانګړي ترکیبونه وړاندې کړو: Ni-Fe10at٪، N-iFe16at٪، Ni-Fe19at٪، Ni-Fe20at٪، Ni-Fe36at٪، Ni-Fe50at٪، Ni-Fe70at٪.
موږ د غوره فعالیت سره د لوړ پاکوالي پتلي فلم کوټینګ موادو تولید کې تخصص لرو او همدارنګه د مولډ کوټینګ ، سینګار ، د موټرو پرزو ، ټیټ ای شیشې ، نیمه کنډکټر مدغم سرکیټ ، پتلی فلم کې د کارولو لپاره ترټولو ممکنه کثافت او ترټولو کوچنی ممکن اوسط دانې اندازې. مقاومت، ګرافیک نندارې، فضایي، مقناطیسي ریکارډ، ټچ سکرین، پتلی فلم سولر بیټرۍ او نور فزیکي بخار ذخیره (PVD) غوښتنلیکونه.مهرباني وکړئ موږ ته د سپکو اهدافو او نورو زیرمو موادو په اړه د اوسني نرخ لپاره پوښتنې راولیږئ چې لیست شوي ندي.
